產(chǎn)品名稱(chēng):DS-2000/14G型光刻機
主要技術(shù)指標:
單次曝光面積:1.4mm×1mm;
大曝光基片:100mm ×100mm ;
對準精度:±0.8μm(半自動(dòng)對準);
大膠厚:300μm(SU8膠);
自動(dòng)逐場(chǎng)對焦;
分辨力:1μm;
X、Y、Z、θ四自由度電動(dòng)位移臺 ;
X、Y平移重復定位精度:0.65μm(3σ);
Z向運動(dòng)精度:1μm。
DS-2000/14G型光刻機技術(shù)特點(diǎn):
該機可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長(cháng)的極紫外光作為光源,用DMD數字微鏡陣列替代傳統掩模板,采用積木 錯位蠅眼透鏡實(shí)現高均勻照明,并配備了雙目雙視顯微鏡和CCD圖象對準系統(可同時(shí)使用),拼接獲得大面積圖形,曝光設定采用微機控制,菜單界面友好,操作簡(jiǎn)便。